Novo método facilita a obtenção do óxido de grafeno reduzido

Em artigo publicado na revista  Applied Surface Science pesquisadores do Centro de Desenvolvimento de Materiais Funcionais (CDMF), da Universidade Federal de São Carlos (UFSCar), apresentam um método mais limpo e rápido para obter o óxido de grafeno reduzido (rGO) – derivado do grafeno com propriedades que permitem diversas aplicações, como o uso em supercapacitores, sensores e filtros.

A pesquisa foi conduzida por Valmor Mastelaro, docente do Instituto de Física de São Carlos da Universidade de São Paulo (IFSC-USP), e por Bruno Sanches de Lima, pós-doutorando do IFSC-USP. Ambos integram a equipe do CDMF, um Centro de Pesquisa, Inovação e Difusão (CEPID) apoiado pela FAPESP. Também participou a mestranda no Programa de Ciência e Engenharia de Materiais (PPG-CEM) da USP Amanda Akemi Komorizono.

Para obter o derivado de grafeno, os pesquisadores aplicaram o método de Hummers, que promove a oxidação da grafita por tratamentos ácidos. Em seguida, o material foi reduzido utilizando irradiações por laser de neodímio ítrio-alumínio-granada, dispositivo que emite pulsos de alta energia em curtíssimos espaços de tempo.

De acordo com Mastelaro, o domínio desse processo permitirá realizar a associação do óxido de grafeno reduzido com metais óxidos semicondutores.

 “O método de redução utilizado apresenta certas vantagens quando comparado aos métodos químicos, térmicos e termoquímicos. Não gera resíduos, tem melhor eficiência e rapidez no processo de redução”, explica Lima, em entrevista para a Assessoria de Comunicação do CDMF.

Os próximos passos do trabalho, segundo os pesquisadores, são a obtenção de materiais híbridos formados pelo óxido de grafeno reduzido e óxidos semicondutores. Em seguida, o grupo pretende testar a eficácia desses compósitos como sensores de gases tóxicos.

 Fonte: Agência Fapesp (com informações da Assessoria de Comunicação do CDMF)